Microsoft patenterar en teknik som kan göra ray tracing mindre VRAM-hungrig

Lästid ikon 2 min. läsa


Läsare hjälper till att stödja MSpoweruser. Vi kan få en provision om du köper via våra länkar. Verktygstipsikon

Läs vår informationssida för att ta reda på hur du kan hjälpa MSPoweruser upprätthålla redaktionen Läs mer

Viktiga anteckningar

  • Microsoft patenterar en teknik för potentiellt effektivare strålspårning i spel.
  • Denna metod använder ett detaljnivåsystem för att justera strålspårningskvalitet baserat på avstånd.
  • Potentiella fördelar inkluderar mjukare strålspårning på lägre VRAM GPU:er och konsoler.
minecraft rtx

Microsoft har ansökt om patent på en ny teknik som kan förbättra effektiviteten av strålspårning i videospel. Vad är det? Strålspårning är en grafikåtergivningsteknik som simulerar ljusets väg för att skapa realistiska ljuseffekter. Det kan dock vara krävande för ett grafikkorts minne (VRAM).

Den föreslagna tekniken använder ett detaljnivåsystem (LOD) för strålspårning. Detta system liknar tekniker som redan används i 3D-grafik, där detaljerna i objekt reduceras ju längre de är från synvinkeln. 

Genom att tillämpa detta koncept på strålspårning föreslår patentet att kvaliteten på strålspårningseffekter skulle kunna justeras baserat på avstånd, vilket kan minska minnesanvändningen.

Detta tillvägagångssätt, om det implementeras effektivt, kan leda till flera potentiella fördelar:

  • Spel med ray tracing-funktioner kan potentiellt fungera smidigt på grafikkort med lägre VRAM-kapacitet, såsom 8GB eller till och med 4GB GPU:er. Detta kan gynna budgetdatorer och mobila enheter med hårdvaruaccelererade strålspårningsmöjligheter.
  • Konsoler med begränsat tillgängligt minne, som Xbox Series S, kan se förbättrad prestanda i spel som använder strålspårning.
  • LOD-systemet skulle kunna erbjuda utvecklare större kontroll över att optimera strålspårningsprestanda för olika hårdvarukonfigurationer.

Det är viktigt att notera att detta är ett patent och inte en garanterad produkt. 

Här är patentansökan.

Kommentera uppropet

E-postadressen publiceras inte. Obligatoriska fält är markerade *